हाल ही में, SEMICON ताइवान 2026 IC फोरम में, वैश्विक लिथोग्राफी की दिग्गज कंपनी ASML ने अपने हाई{1}}NA EUV (हाई न्यूमेरिकल एपर्चर एक्सट्रीम अल्ट्रावॉयलेट) लिथोग्राफी मशीनों के नवीनतम कोर डेटा और तकनीकी प्रगति पर विस्तृत खुलासे प्रदान किए, क्योंकि वे हाई{2}वॉल्यूम मैन्युफैक्चरिंग (HVM) की ओर आगे बढ़ रही हैं।
उत्पादन पैमाने और उपकरण वितरण के संबंध में, एएसएमएल ने घोषणा की कि दुनिया भर में चार ग्राहकों ने इंस्टॉलेशन पूरा कर लिया है, कुल 10 उच्च -एनए ईयूवी सिस्टम अब पूरी तरह से चालू हैं। अतिरिक्त तीन प्रणालियाँ वर्तमान में शिपिंग और स्थापना चरण में हैं। आज तक, इन मशीनों ने संचयी रूप से 1.35 मिलियन से अधिक वेफर्स का प्रदर्शन किया है, जो प्रयोगात्मक सत्यापन से पूर्ण पैमाने पर औद्योगिक अनुप्रयोग तक प्रौद्योगिकी के संक्रमण को चिह्नित करता है। विशेष रूप से, इंटेल ने इस तकनीक का उपयोग करके अपने इंटेल 18ए प्रोसेस नोड पर कुछ कोर अल्ट्रा सीरीज़ 3 प्रोसेसर (कोडनेम पैंथर लेक) का बड़े पैमाने पर उत्पादन करने में अग्रणी भूमिका निभाई है, जो हाई{11}एनए ईयूवी का उपयोग करके लॉजिक चिप्स की उच्च मात्रा में शिपमेंट हासिल करने वाली विश्व स्तर पर पहली कंपनी बन गई है।
उपकरण के प्रदर्शन और स्थिरता के संदर्भ में, पहले {{0}जेनरेशन मास-उत्पादन मॉडल, EXE:5200B, ने एचवीएम मानकों को पूरा करते हुए स्वीकृति परीक्षण के दौरान 135 वेफर्स प्रति घंटे (डब्ल्यूपीएच) का थ्रूपुट हासिल किया है। इस बीच, वैश्विक बेड़े की उपलब्धता दर बढ़कर 84% हो गई है। एएसएमएल का अनुमान है कि 93% के दीर्घकालिक लक्ष्य के साथ 2026 के अंत तक यह दर 90% तक पहुंच जाएगी। अपने मौजूदा एनएक्सई प्लेटफॉर्म से रखरखाव के अनुभव का लाभ उठाकर, एएसएमएल ने यह सुनिश्चित किया है कि मशीनों का ओवरले और फोकस प्रदर्शन कड़े बड़े पैमाने पर उत्पादन आवश्यकताओं को पूरा करता है।
तकनीकी लाभ और भविष्य के रोडमैप के संबंध में, पिछले 0.33 एनए ईयूवी सिस्टम की तुलना में, 0.55 एनए हाई-एनए ईयूवी बेहतर रिज़ॉल्यूशन प्रदान करता है। यह एकल पैटर्न को जटिल बहु पैटर्न को बदलने में सक्षम बनाता है, दोष दर, उत्पादन चक्र समय और उन्नत नोड्स के लिए समग्र लागत को सीधे कम करता है। इसके अलावा, यह तकनीक 2डी चिप लेआउट के लिए नए डिज़ाइन स्थान खोलती है, जिससे संभावित रूप से मेटल इंटरकनेक्ट परतों की कुल संख्या कम हो जाती है। आगे देखते हुए, एएसएमएल ने एक दशक से अधिक समय तक चलने वाला एक स्थिर प्रौद्योगिकी रोडमैप स्थापित किया है। EUV प्रकाश स्रोत शक्ति (600W से 1000W तक) बढ़ाकर और अन्य यांत्रिक प्रक्रियाओं को अनुकूलित करके, कंपनी का लक्ष्य इस दशक के अंत तक उपकरण थ्रूपुट को 180 WPH तक बढ़ाना है, जो 2nm नोड से एंगस्ट्रॉम युग में सेमीकंडक्टर निर्माण के लिए मुख्य समर्थन प्रदान करना जारी रखता है।
