हुआवेई ने चिप विकास में मदद के लिए उद्योग को झटका, लेजर विनिर्माण शुरू किया

29 अगस्त को, हुआवेई ने एक भारी बम फेंका - हुआवेई मेट 60 प्रो, बिक्री के एक घंटे से भी कम समय में बिक गया। बिक्री पर इस नए मॉडल ने उद्योग में सदमे की लहर पैदा कर दी, इसका मुख्य कारण यह है कि जब पश्चिमी गर्दन द्वारा चीन की उच्च-प्रक्रिया चिप ने सीधे हुआवेई के प्रदर्शन को "आश्चर्यचकित" कर दिया, और इस कार्रवाई का मतलब यह हो सकता है कि हुआवेई ने समस्या का समाधान किया। उच्च-प्रक्रिया चिप्स के बारे में बात करते हुए, ईयूवी लिथोग्राफी के नायक को सामने आना पड़ा। नीदरलैंड एस्मे की ईयूवी लिथोग्राफी वर्तमान में सबसे उन्नत है, जो 5nm हाई-एंड चिप्स का निर्माण कर सकती है, जबकि चीन की पूरी तरह से स्वतंत्र लिथोग्राफी केवल 90nm प्रक्रिया को दर्शाती है, अंतर आधे स्टार से अधिक हो सकता है। ईयूवी लिथोग्राफी के मुख्य उपकरणों में से एक लेजर है, और जर्मनी का ट्रैफिगुरा एस्मैक को इस प्रमुख घटक का एकमात्र आपूर्तिकर्ता है। लेज़र इतना महत्वपूर्ण क्यों है? क्योंकि EUV लिथोग्राफी अपने प्रकाश स्रोत के रूप में 10-14nm की तरंग दैर्ध्य के साथ अत्यधिक पराबैंगनी प्रकाश का उपयोग करती है। यहां हमें यह समझने की जरूरत है कि संपूर्ण ईयूवी लिथोग्राफी मशीन में लेजर क्या भूमिका निभाता है।
ईयूवी लिथोग्राफी की भूमिका के प्रारंभिक चरण में, पहला जनरेटर टिन को निर्वात कक्ष में गिराएगा, इस समय तेज स्पंदित उच्च-शक्ति लेजर से लेजर बीम की औसत पल्स शक्ति 30 किलोवाट से अधिक का उत्पादन होगा, शिखर पल्स पावर कई मेगावाट तक भी पहुंच सकती है, ताकि टिन ड्रॉप की तरफ से प्रति सेकंड 50,{3}} बार तक वार किया जा सके। टिन परमाणुओं को आयनित किया जाता है, जिससे एक उच्च तीव्रता वाला प्लाज्मा बनता है जो सभी दिशाओं में 13.5 एनएम की तरंग दैर्ध्य पर ईयूवी विकिरण उत्सर्जित करता है। यह ईयूवी लिथोग्राफी का सार, इसका "स्रोत" है। वह प्रक्रिया जिसमें प्रारंभिक प्रकाश स्रोत टिन तरल से टकराता है, वास्तव में दो चरणों में विभाजित होती है, जिसमें दो प्रमुख पल्स शामिल होते हैं, जिन्हें हम प्री-पल्स और मुख्य पल्स कहते हैं। तथाकथित प्री-पल्स, जैसा कि नाम से पता चलता है, तरल टिन पर कार्य करने वाला पहला है, मुख्य रूप से इसे अगले चरण के लिए वांछित आकार में आकार देने के लिए। और फिर मुख्य पल्स सीधे उस पर कार्य करती है, जो इसे प्लाज्मा में परिवर्तित कर देती है। यह लेजर द्वारा जारी किरण पर अत्यधिक मांग है, जिसमें यह सुनिश्चित करने के लिए सही ऑप्टिकल विशेषताएं होनी चाहिए कि टिन तरल को प्लाज्मा और इसलिए ईयूवी विकिरण का उत्पादन करने के लिए सही ढंग से इलाज किया जा सके। तो क्या उच्च शक्ति वाले लेज़रों में ईयूवी विकिरण उत्पन्न करने के लिए अधिक संवर्द्धन होंगे, या क्या उच्च शक्ति वाले लेज़र अन्य तकनीकों को छोड़ सकते हैं और भविष्य की लिथोग्राफी की समग्र तकनीकी आवश्यकताओं को अधिक संक्षिप्त बना सकते हैं? दरअसल, शुरुआती चीनी वैज्ञानिक इस अध्ययन से जुड़े रहे हैं।
2021 में, सिंघुआ यूनिवर्सिटी इंजीनियरिंग फिजिक्स के प्रोफेसर तांग चुआनक्सियांग के शोध समूह और जर्मन शोध टीम ने प्रयोग के सिद्धांत को सत्यापित करने के लिए "स्थिर-राज्य माइक्रो-बीम" (एसएसएमबी) नामक एक नया कण गैस पेडल प्रकाश स्रोत पूरा किया। यह बताया गया है कि बर्लिन एमएलएस स्टोरेज रिंग में इलेक्ट्रॉन बीम में हेरफेर करने के लिए 1064 नैनोमीटर की लेजर तरंग दैर्ध्य का मुख्य उपयोग किया जाता है, ताकि रिंग के चारों ओर एक पूर्ण चक्र (48 मीटर की परिधि) हो, ताकि एक अच्छा माइक्रो-पॉलिमर बन सके। खुशी से उछलना। माइक्रोक्लस्टर किरणें लेजर तरंग दैर्ध्य और इसके उच्च हार्मोनिक्स पर उच्च तीव्रता वाली संकीर्ण-बैंडविड्थ सुसंगत प्रकाश उत्सर्जित करती हैं, और प्रयोगों ने विकिरण की जांच करके माइक्रोक्लस्टर बीम के गठन को सत्यापित किया, इस प्रकार यह प्रदर्शित किया गया कि इलेक्ट्रॉनों के ऑप्टिकल चरणों को सहसंबंधित किया जा सकता है। लेजर तरंग दैर्ध्य से कम परिशुद्धता के साथ बाय-सर्कल, जो इलेक्ट्रॉनों को लेजर द्वारा गठित ऑप्टिकल संभावित कुओं में स्थिर रूप से फंसने की अनुमति देता है, और इस प्रकार एसएसएमबी के संचालन के तंत्र को सत्यापित करता है। इसका तात्पर्य यह भी है कि भविष्य में एसएसएमबी-आधारित ईयूवी प्रकाश स्रोतों से बड़ी औसत शक्ति और संभावित रूप से कम तरंग दैर्ध्य प्राप्त होने की उम्मीद है, जिसका भविष्य में ईयूवी लिथोग्राफी के उन्नयन और अनुप्रयोग विस्तार पर बहुत प्रभाव पड़ेगा।
ईयूवी लिथोग्राफी के विकास का पता लगाने और संचय करने की आवश्यकता है, और यह केवल समय की बात है कि नई प्रौद्योगिकियां ईयूवी लिथोग्राफी की चिप प्रक्रिया को बढ़ा सकती हैं, इसकी ऊर्जा खपत को कम कर सकती हैं और इसकी सीमाओं को तोड़ सकती हैं। शायद भविष्य ईयूवी लिथोग्राफी की पुनरावृत्ति नहीं है, बल्कि इसे बदलने के लिए नई प्रौद्योगिकियों का जन्म है। लेज़रों की शक्ति अनंत है, और मेरा मानना ​​है कि अभी कई और संभावनाएँ खोजी जानी बाकी हैं।